捷佳伟创(300724):业绩维持高增,平台化布局助力长期展-公司动态跟踪报告

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   近日公司首台钙钛矿GW级磁控溅射立式真空镀膜设备PVD2400V顺利出货。PVD2400V幅宽2400mm,对应1200x2400基板。该设备的成功交付,表现了公司掌握钙钛矿真空镀膜设备的高新技术,满足市场发展需求。

   盈利能力显著提升,期间费用率略有增加。2024H1年公司销售毛利率约为31.62％,同比约+5.17pct;销售净利率约为18.53％,同比+0.11pct,随着公司泛半导体领域平台化布局,盈利能力有望进一步提升。公司期间费用率为6.85％,同比+0.93pct,其中销售/管理/研发/财务费用占营业收入的比重分别为2.25％/1.28％/4.40％/-1.08％,主要系销售和财务费用率同比+0.48pct和+1.50pct,整体费用管控良好。2024H1年公司实现经营性净现金流1.96亿元,其中单Q2实现经营性净现金流3.28亿元。

   TOPCon技术渐成主流,多元布局光伏技术。公司作为太阳能电池设备的领军企业前瞻布局多种N型技术路线,紧抓TOPCon扩产机遇实现了业绩高速增长,具备明显先发优势,保持领先的市场份额。同时在HJT技术路线上,公司常州中试线上的HJT电池片平均转换效率达到25.6％(ISFH标准),并且公司的大腔室射频双面微晶技术全面量产;在钙钛矿技术路线上,公司的大规格涂布设备以及大尺寸闪蒸炉(VCD)顺利出货给下游客户。

   泛半导体领域布局加速,打造全新业务增长极。在半导体装备领域中,公司子公司创微微电子中标碳化硅整线湿法设备订单,标志着公司6/8吋槽式及单片全自动湿法刻蚀清洗设备已经覆盖了碳化硅器件刻蚀清洗全段工艺,具备替代进口设备的能力,同时公司半导体湿法设备积极开拓欧亚市场不断取得订单。在锂电新能源装备领域,公司自主研发的双面卷绕铜箔溅射镀膜设备成功下线,并且在8月份向客户成功交付了一步法复合集流体真空卷绕铝箔镀膜设备。

   投资评级:预计公司2024-2026年净利润分别为25.85亿,32.65亿和35.16亿,对应PE分别为6x、5x、5x,首次覆盖,给予"增持"评级。

   风险提示:订单交付不及预期;盈利预测与估值模型失效的风险