拓荆科技(688072):薄膜沉积拓展加速,混合键合打开广阔空间-深度报告

本报告导读:公司为国内薄膜沉积设备龙头,受益于先进制程及成熟制程扩产,订单有望维持高增长,看好公司长期发展。

   投资要点:维持"增持"评级,上调目标价至190.8元。公司为薄膜沉积设备龙头,跟随半导体市场复苏及下游晶圆厂积极扩产,公司在手订单充裕,我们上调公司2024-2026年EPS至2.95/4.66/6.86元(前值为2.93/4.43/6.26元)。考虑公司在薄膜沉积领域领先技术优势,充分受益先进及成熟制程扩产,订单迎来加速释放,叠加延伸布局混合键合设备领域,行业空间广阔,参考PE及PS两种估值法,上调目标价至190.8元。

   国内薄膜设备龙头,厚积薄发业绩提速在即。公司是国内半导体薄膜沉积设备龙头,PECVD国内市占率第一,纵向持续突破ALD、SACVD/HDPCVD等高难度设备,横向延伸混合键合等设备领域。

   从2018年至今,营业收入高增,近5年CAGR达60.9％,2024年H1公司收入12.67亿元,同比+26.2％。从ROE看,公司对比全球头部企业较低,主要受资产周转率拖累,22、23年公司大量新产品处于验证期中,验证时间需要1～2年。截至2023年末公司在手订单64.23亿元(不含Demo),公司订单持续高增,公司业绩有望提速。

   公司薄膜沉布局行业领先,前瞻布局混合键合。薄膜沉积为前道核心设备,当前存量市场国产化率不足20％。PECVD占薄膜沉积市场份额33％,占比第一,根据产业链调研,PECVD在先进逻辑及存储用量较成熟产线提升30～50％。公司作为国内PECVD龙头,有望跟随先进及成熟制程扩产放量。同时,公司纵向布局SACVD/HDPCVD/ALD等高端设备,在先进制程中用量大幅提升,公司为国内唯一实现SACVD产业化的企业、首台HDPCVD设备2023年已通过验证、ALD产能在上海临港大幅扩产,未来业绩可期。此外,公司前瞻性布局混合键合设备,混合键合作为实现高密度堆叠的终极方案,被应用于3DNAND、HBM等领域,有望打开公司空间,公司W2W和D2W前表面预处理产品获得重复性订单,走在行业前列。

   催化剂:先进制程扩产积极,公司高端产品验证通过

   风险提示:下游需求不及预期;技术进步不及预期